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六源有機(jī)無(wú)機(jī)聯(lián)合蒸發(fā)鍍膜設(shè)備

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六源有機(jī)無(wú)機(jī)聯(lián)合蒸發(fā)鍍膜設(shè)備適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等,可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗(yàn)工作。OPV系列真空蒸發(fā)鍍膜與手套箱聯(lián)合系統(tǒng)的用戶群體為科研院所及實(shí)驗(yàn)室,將真空蒸發(fā)系統(tǒng)工作室置于Glove box無(wú)水、無(wú)氧、無(wú)塵的超純環(huán)境中,PVDGlove box硬件無(wú)縫對(duì)接,操控融合一體,廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無(wú)機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽(yáng)能電池、OLED等研究領(lǐng)域。

產(chǎn)品型號(hào)

六源有機(jī)無(wú)機(jī)聯(lián)合蒸發(fā)鍍膜設(shè)備

主要特點(diǎn)

1、樣品在鍍膜過(guò)程中,帶有烘烤加熱功能,烘烤加熱溫度為:室溫~180℃,測(cè)溫控溫。

2、設(shè)備帶有斷水?dāng)嚯娺B鎖保護(hù)報(bào)警裝置、防誤操作保護(hù)報(bào)警裝置。

技術(shù)參數(shù)

1、鍍膜室:鍍膜腔室尺寸約為600×450×450mm,不銹鋼材料,方形前后開(kāi)門結(jié)構(gòu),內(nèi)帶有防污板。
2、抽氣系統(tǒng):采用分子泵+機(jī)械泵抽氣系統(tǒng)
   真空度:鍍膜室的極限真空≤6×10-4Pa;
   系統(tǒng)漏率≤1×10-7PaL/s。

3、蒸發(fā)源系統(tǒng):
   有機(jī)源蒸發(fā)源4個(gè),容積5ml,2臺(tái)蒸發(fā)電源,可測(cè)溫控溫,加熱溫度400℃,功率0.5Kw;
   擋板:蒸發(fā)源擋板采用自動(dòng)磁力控制方式,控制其開(kāi)啟;
   安裝:蒸發(fā)源安裝在真空室的下底上。

4、樣品架系統(tǒng):
樣品架可放置大小為Φ120mm的樣品,載玻片;

樣品架可旋轉(zhuǎn),旋轉(zhuǎn)速度為:0~30轉(zhuǎn)/分;
安裝:樣品安裝在真空室的上蓋上,蒸發(fā)源安裝在真空室的下蓋上,向上蒸發(fā)鍍膜,蒸發(fā)源都帶有擋板裝置。

7、 5、無(wú)機(jī)蒸發(fā)源2套、容積5ml,2臺(tái)蒸發(fā)電源,加熱電流300A,功率3.2Kw;
8、 6、石英晶振膜厚控制儀:膜厚測(cè)量范圍0-999999Å。


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