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返回產品中心> 公司介紹： 德國Microworks 公司成立于 2007年, 是卡爾斯魯厄理工學院（KIT）微技術研究所 (IMT) 衍生的子公司。通過使用X 射線和激光LIGA技術，Microworks為客戶提供高精度微結構的產品。在微納米技術領域，Microworks代表著高精度。在一個晶片內或者從一個晶片到另一個晶片，其高縱橫比和精度可以遠低于1µm。其產品涵蓋相襯成像光柵、微齒輪、雙曲型電極、精密篩、近紅外濾波器（選頻濾波器）、微彈簧，RF等。 產品介紹： X射線光柵的制作流程 吸收光柵 （a）準備光柵膠層 （b）掩膜光刻膠層在X射線下曝光 （c）形成精細的光刻膠結構 （d）電鍍金形成X射線光柵結構 產品特點： 高縱橫比結構 極小周期 大面積X射線 標準結構面積 4英寸基板： 70~90mm的直徑 6英寸基板：高達110mm(在某些情況 有限制） 更大尺寸選項 拼接多個光柵面板 在單個制作工藝上擴大結構面積（研發(fā)） 彎曲光柵 椎束照射高縱橫比光柵，為了避免影像影響，可采用彎曲光柵，可使用特殊的夾具來運輸 主要應用： 用于Talbot干涉儀的X射線光柵 微焦源Talbot干涉成像儀 光源：微焦X射線管 E=25keV 加速電壓：40KV 電流：120 μA G1：周期4.37 μm(Ni) G2： 周期2.4μm(Au） 在SR裝置BL-14C線站的Talbot干涉實驗 E=17.8 keV Al 濾片 2.0 mm G1：周期 2.4 μm (Ni） G2：周期 2.4 μm (Au）
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