捷歐路JEOL BS/JEBG/EBG系列 電子槍用于光學(xué)薄膜及電極膜等各種薄膜形成的電子束蒸鍍用電子槍/電源。

電子束蒸鍍法的特征：用電子束直接照射鍍膜材料進行加熱，因此熱效率高，能蒸發(fā)高熔點金屬、氧化物、化合物、升華性物質(zhì)等各種材料。鍍膜材料在水冷銅坩堝內(nèi)被直接加熱，因此不會象電阻加熱式或感應(yīng)加熱式那樣與坩堝發(fā)生反應(yīng)?？赡苄枰褂蜜釄鍍?nèi)襯。能迅速控制輸出，因而能精確地控制膜厚。與濺射法及CVD法相比，能快速鍍膜是一大特征。對形成1µm 以上的厚膜也很有效。

日本電子制造的電子槍/電源的特征如下

氧化物：電子束垂直照射鍍膜材料，束斑近似圓形，具有能量密度高的特征。此外，由于標準配備了快速掃描功能，非常適合蒸鍍?nèi)邳c高、熱傳導(dǎo)性低的氧化物及升華性材料，能獲得良好的熔痕，大面積的鍍膜區(qū)域上膜厚分布均勻，重現(xiàn)性好。

金屬：坩堝的選擇范圍很大，能進行多種、大量、高速率的蒸鍍，還有用來抑制成膜時溫度上升的剝離工藝用電子槍。

合金復(fù)合膜：往臨近的兩個或三個坩堝內(nèi)充填不同的材料，使用專用的掃描控制器進行雙源或三源蒸發(fā)，可以形成合金膜和復(fù)合膜。

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