金屬熱蒸鍍?cè)O(shè)備 Metal Thermal Evaporation System
熱蒸發(fā)制程是用于沉積材料中簡(jiǎn)單的物理氣相沉積 PVD . 將材料 (金屬或者有機(jī)材料等) 置于真空環(huán)境中的電阻熱源中, 使其加熱并蒸發(fā), 以最直接的方式蒸發(fā)到基板上, 然后在基板上凝結(jié)成固態(tài)形成薄膜. 熱蒸發(fā)比濺鍍可以提供更快的蒸發(fā)速率. 上海伯東代理的金屬熱蒸鍍?cè)O(shè)備加裝美國(guó) KRI 離子源, 可以精準(zhǔn)的控制蒸發(fā)速度, 為客戶提供*的復(fù)合式薄膜, 且薄膜的厚度和均勻度小于+/- 3％, 廣泛應(yīng)用于納米薄膜, 太陽(yáng)能電池等行業(yè)以及金屬材料的研究等.

上海伯東金屬熱蒸鍍?cè)O(shè)備配置和優(yōu)點(diǎn)
客制化的基板尺寸, zui大直徑為 12寸晶圓或 470 x 370 mm
寬大的前開式門, 并有兩個(gè)視窗和視窗遮版用于觀察基材和蒸發(fā)源
優(yōu)異的薄膜均勻度小于±3％
具有順序操作或共沉積的多個(gè)蒸發(fā)源
基板可加熱到 800°C
利用載臺(tái)旋轉(zhuǎn)來(lái)改善薄膜沉積品質(zhì)
基板至蒸發(fā)源的間距可調(diào)式
每個(gè)蒸發(fā)源和基材均有安裝遮板

上海伯東美國(guó) KRI 離子源可用于基板清潔和加速材料的蒸發(fā)速度, 并且離子源在材料沉積過程中可幫助沉積并使沉積后的薄膜更為致密.

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上海伯東: 羅先生