簡要描述： 稀土硅鎂分析等離子體光譜儀作為一種大型精密無機(jī)分析儀器，廣泛應(yīng)用于稀土分析、貴金屬分析、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、石油、化工等行業(yè)，以及商檢、環(huán)保等部門和釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)，出色地完成從超微量到常量的定性或定量分析。

北京華科易通分析儀器有限公司，是電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀的專業(yè)制造廠商。它是集科研、生產(chǎn)、銷售、技術(shù)服務(wù)于一體的高科技企業(yè)。HK-8100型稀土硅鎂分析等離子體光譜儀，是我公司在現(xiàn)有技術(shù)的基礎(chǔ)上，吸收國際技術(shù)成果研制開發(fā)的產(chǎn)品。

稀土硅鎂分析等離子體光譜儀作為一種大型精密無機(jī)分析儀器，廣泛應(yīng)用于稀土分析、貴金屬分析、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、石油、化工等行業(yè)，以及商檢、環(huán)保等部門和釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)，出色地完成從超微量到常量的定性或定量分析。

是集光、機(jī)、電、計(jì)算機(jī)、分析技術(shù)于一體的新技術(shù)產(chǎn)品，具有測試速度快、測量范圍寬、分析結(jié)果準(zhǔn)確、可靠等特點(diǎn)。由于采用了計(jì)算機(jī)技術(shù)，儀器實(shí)現(xiàn)了高度智能化，從分析處理到數(shù)據(jù)采集等環(huán)節(jié)都達(dá)到了目前水平，是一種十分理想的分析儀器。

公司以一批多年積累的技術(shù)成果和實(shí)力雄厚的科研隊(duì)伍為后盾，以其豐富的工作經(jīng)驗(yàn)和和完善熱情的服務(wù)為保障，竭誠為社會提供高精度、高靈敏度和高穩(wěn)定性的等離子體發(fā)射光譜儀產(chǎn)品。

主要特點(diǎn)

• 優(yōu)良的光學(xué)系統(tǒng)，的控制系統(tǒng)：保證定位準(zhǔn)確，信背比優(yōu)良；                                               
• 采用進(jìn)口的關(guān)鍵部件：確保儀器的精確度和靈敏度；
• 極小的基體效應(yīng)：99%的試樣不用分離基體；
• 測量范圍寬：超微量到常量的分析；
• 良好的測量精度:相對標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD≤1.50%；
• 穩(wěn)定性：相對標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD≤2.00% ；
• 分析速度快：每分鐘元素順序掃描zui快達(dá)20個以上；
• 分析元素之多：可分析72種金屬元素和部分非金屬元素；
• 檢出限低：ppb；
• 可做定性或定量分析；
• 便捷的分析軟件：基于Windows XP平臺下的第三代中文版或英文版操作軟件，使操作更加簡便容易，軟件無需安裝可直接使用，數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)提供多種功能，對輸出數(shù)據(jù)可任意選擇打印。

• 儀器組成及工作原理

  HK-8100型等離子體發(fā)射光譜儀,是單、多元素順序測量的分析測試儀器。該儀器由掃描分光器、射頻發(fā)生器、試樣引入系統(tǒng)、光電轉(zhuǎn)換、控制系統(tǒng)、數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)、分析操作軟件組成。

  等離子體是在三重同心石英炬管中產(chǎn)生。炬管內(nèi)分別以切向通入氬氣，炬管上部繞有紫銅負(fù)載線圈（內(nèi)通冷卻水）當(dāng)高頻發(fā)生器產(chǎn)生的高頻電流（工作頻率40.68MHz功率1kW左右）通過線圈時，其周圍產(chǎn)生交變磁場，使少量氬氣電離產(chǎn)生電子和離子，在磁場作用下加速運(yùn)動與其它中性原子碰撞，產(chǎn)生更多的電子和離子，在炬管內(nèi)形成渦流，在電火花作用下形成等離子炬（即等離子體），這種等離子體溫度可達(dá)8000K以上。待測水溶液經(jīng)噴霧器形成氣溶膠進(jìn)入石英炬管中心通道。原子受到外界能量的作用下，使原子電離，即處于激發(fā)態(tài)的原子十分不穩(wěn)定。從較高能級躍遷到基態(tài)，將釋放出能量。這種能量是以一定波長的電磁波的形式輻射出去。不同元素產(chǎn)生不同的特征光譜。這些特征光譜通過透鏡射到分光器中的光柵上，分光后的待測元素特征譜線光強(qiáng)，通過計(jì)算由步進(jìn)電機(jī)轉(zhuǎn)動光柵傳動機(jī)構(gòu)，準(zhǔn)確定位于出口狹縫處，光電倍增管將該譜線光強(qiáng)轉(zhuǎn)變?yōu)楣怆娏鳎俳?jīng)電路處理和V/F轉(zhuǎn)換后，由計(jì)算機(jī)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理，zui后由打印機(jī)打出分析結(jié)果。

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  主要技術(shù)指標(biāo)

  掃描范圍 ：光柵3600條刻線/mm,掃描范圍（190～500）nm

            光柵2400條刻線/mm,掃描范圍（190～800）nm

  波長示值誤差：±0.03nm，重復(fù)性≤0.005nm。

  zui小光譜帶寬：Mn 257.610nm，譜線峰半高寬≤0.008nm。

  重復(fù)性：相對標(biāo)準(zhǔn)偏差 RSD≤1.50%

  穩(wěn)定性：相對標(biāo)準(zhǔn)偏差 RSD≤2.00%