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某品牌 Sputtering + E-Beam PVD 鍍膜機系統(tǒng)采用 HVA 真空閥門 11000, HVA 真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統(tǒng)停機時不破壞系統(tǒng)真空, 只要對泵內(nèi)部進行破真空即可.
HVA 不銹鋼真空閘閥 11000 系列標準技術規(guī)格:
閥門材質(zhì): | |
- 閥門主體 | 304 不銹鋼 |
- 焊接波紋管軸封 | AM - 350 |
閥門密封方式 | |
- 高真空 | 氟橡膠 |
- 超高真空 | 銅墊圈 / 氟橡膠 |
真空: | |
- 壓力范圍 | 高真空 1x10-9 mbar, 超高真空 1x10-10 mbar |
- 漏率 | < 2x10-9 mbar l/S |
- 差壓關閉 | 1 bar ( 任意位置 ) |
- 開啟前壓力 | ≤ 30 mbar |
烘烤溫度（不含電磁閥）: | |
- 彈性體密封閥蓋 | 150°C |
- 金屬密封閥蓋 | -開啟溫度：200°C -關閉值：150°C |
- 驅(qū)動方式 | 手動 60 °c, 氣動 60 °c |
機制 | |
手動： | 手搖曲柄 |
電磁閥供電電壓 | 120 VAC 50 /60 Hz |
電磁閥可選電壓 | 24, 200, 240 VAC 50/60 Hz |
電磁閥位置指示器 | 115 VAC |
氣動送風： | 80 psig |
使用壽命: 100,000 啟閉次數(shù) (具體視實際使用情況決定) | |
公稱通徑: DN 16 - 800 mm | |
E-Beam 鍍膜機設備組成: 系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室, 電子槍, 進樣室 (可選) , 旋轉(zhuǎn)基片加熱臺, 工作氣路, 抽氣系統(tǒng), 真空測量, 電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成.
基片在做實驗前一般需要做鍍前預處理, 鍍前預處理的目的是為了得到干凈新鮮的金屬表面, 為最后獲得高質(zhì)量鍍層作準備, 要進行脫脂, 去銹蝕, 去灰塵等工作, 也有客戶在 LOADLOCK 腔進行射頻反應清洗, 通過使用上海伯東 KRI 離子源將基片的表層打掉, 得到更光滑和均勻的表面.
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2025廣州國際分析測試及實驗室設備展覽會暨技術研討會
展會城市：廣州市展會時間：2025-03-05