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牛津儀器網(wǎng)絡(luò)講堂:X射線熒光法直接測定NiP鍍層厚度和含量

牛津儀器網(wǎng)絡(luò)講堂:X射線熒光法直接測定NiP鍍層厚度和含量

開始時(shí)間2017年1月12日

結(jié)束時(shí)間2017年1月12日

舉辦地點(diǎn)

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牛津儀器網(wǎng)絡(luò)講堂:X射線熒光法直接測定NiP鍍層厚度和含量

  主題:X射線熒光法直接測定NiP鍍層厚度和含量
  
  開始時(shí)間:2017-1-12 15:00
  
  結(jié)束時(shí)間:2017-1-12 16:00
  
  主講人:董松林,牛津儀器(上海)有限公司臺(tái)式熒光應(yīng)用工程師,長期從事X射線熒光儀和XRF分析方法的應(yīng)用與技術(shù)支持工作。
  
  【內(nèi)容簡介】
  
  化學(xué)鎳(NiP)鍍層應(yīng)用在表面處理行業(yè)非常廣泛,但生產(chǎn)工藝控制中對(duì)于NiP鍍層的厚度和成分同時(shí)監(jiān)控是一個(gè)難點(diǎn)。傳統(tǒng)的分析方法是預(yù)設(shè)NiP比例,然后測試厚度。無法做到同時(shí)測量。
  
  本次講堂介紹一種使用XRF方法同時(shí)測定NiP鍍層厚度和組成的解決方案。通過對(duì)測試所需儀器的硬件介紹,幾個(gè)具體案例和實(shí)際測試數(shù)據(jù)來說明NiP厚度與組成同時(shí)測量的可行性。
  
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