Nicomp 380 系列納米粒徑與電位分析儀 是專門用于測量納米級顆粒以及膠體樣品體系的先進(jìn)粒度分析儀器，其測量范圍為 0.3 nm - 10 μm。儀器所擁有*的基線調(diào)整自動補(bǔ)償能力和高分辨率多模式算法，多年來不同領(lǐng)域的使用證明了它可以區(qū)分開單峰樣本體系和無約束復(fù)雜多峰樣本體系，是研發(fā)的較佳選擇！Nicomp 380系列儀器是*在應(yīng)用動態(tài)光散射技術(shù)上的基礎(chǔ)上加入多模塊方法的先進(jìn)粒度儀。可搭載自動進(jìn)樣系統(tǒng)、自動稀釋系統(tǒng)、多角度探測及高濃度背光散射和在線監(jiān)測等模塊，隨著模塊的升級和增加， Nicomp 380 可以更快更準(zhǔn)確的用于各種復(fù)雜樣品的檢測分析。
納米粒徑與電位分析儀工作原理：動態(tài)光散射
技術(shù)優(yōu)勢：
· 符合美國USP729檢測項(xiàng)目I和符合中國藥典版的推薦方法;
· 的Nicomp多峰算法和傳統(tǒng)高斯單峰算法相結(jié)合，為復(fù)雜體系提供更準(zhǔn)確的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)；
· 的自動稀釋模塊；
帶有的自動稀釋模塊消除了人工稀釋高濃度樣品帶來的誤差，大大縮短了使用者測試的寶貴時(shí)間，測試結(jié)果重現(xiàn)性好，誤差率＜1%；
· 精確度高，重現(xiàn)性好;
· 可選配超高分辨率檢測模塊；
· 模塊化設(shè)計(jì)便于維護(hù)和升級；
· 特為多組分不均勻體系設(shè)計(jì)；
· 可搭載自動進(jìn)樣系統(tǒng)；
· *的樣品池設(shè)計(jì)，可消除樣品的交叉污染；
· 快速檢測，可追溯歷史數(shù)據(jù)；
· 并且能提供多種類的數(shù)據(jù)展現(xiàn)形式，Nicomp分布以粒子粒徑大小，數(shù)量和體積的形式分布呈現(xiàn)
· Zeta電勢電位測定：Nicomp Z3000結(jié)合了動態(tài)光散射技術(shù)（DLS）和電泳光散射法（ELS），實(shí)現(xiàn)了同機(jī)測試亞微米粒子分布和ZETA電勢電位。ELS 是將電泳和光散射結(jié)合起來的一種新型光散射，它的光散射理論基礎(chǔ)是準(zhǔn)彈性碰撞理論，在實(shí)驗(yàn)時(shí)通過在樣品槽中外加一個外電場，帶電粒子即會以固定速度向與帶電粒子電性相反的電極方向移動，與之相應(yīng)的動態(tài)光散射光譜產(chǎn)生多普勒漂移，這一漂移正比于帶電粒子的移動速度，因此由實(shí)驗(yàn)測得的譜線的漂移，就可以求得帶電粒子的電泳速度，從而得到ζ-電位值。通過測試顆粒之間排斥力 ，判斷體系穩(wěn)定性的測量手段之一。并且配備靶電極，經(jīng)久耐用；
應(yīng)用領(lǐng)域：
· 醫(yī)藥領(lǐng)域：乳劑，注射劑，脂質(zhì)體，膠體，混懸劑，滴眼液，高分子，病毒，疫苗等；
· 半導(dǎo)體： CMP Slurry，芯片，晶圓加工等
· 特殊化工品：墨水&噴墨，納米材料，化工染料，潤滑劑，清洗劑等。
- 其他：過濾產(chǎn)品，清潔度方面，食品飲料，化妝品等
