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單波長橢偏儀（激光橢偏儀）

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公司名稱 安合盟（天津）科技發(fā)展有限公司
品牌
型號
所在地
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間 2016/1/11 14:00:00
訪問次數(shù) 1343

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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動化，降低對人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動化，降低對人的依賴。

系統(tǒng)規(guī)格：波長：637nm入射角：連續(xù)，30~90°（±0.03°）樣品尺寸：4inch~8inch精度：（1200A SiO2標(biāo)準(zhǔn)片，5times） TKS±2.5A/N±0.005尺寸：80cm×34cm×42cm應(yīng)用：鍍膜工藝 *化及監(jiān)控 SiNx減反膜工藝 TiO2減反膜工藝復(fù)合SiNx減反膜工藝SiO2鈍化工藝復(fù)合SiNx/SiO2減反膜工藝SiO2掩膜工藝

詳細(xì)信息在線詢價(jià)

系統(tǒng)規(guī)格：
波長：637nm
入射角：連續(xù)，30~90°（±0.03°）
樣品尺寸：4inch~8inch
精度：（1200A SiO₂標(biāo)準(zhǔn)片，5times）
TKS±2.5A/N±0.005
尺寸：80cm×34cm×42cm

應(yīng)用：

鍍膜工藝 *化及監(jiān)控

SiNx減反膜工藝

TiO2減反膜工藝

復(fù)合SiNx減反膜工藝

SiO₂鈍化工藝

復(fù)合SiNx/SiO₂減反膜工藝

SiO₂掩膜工藝

軟件特征：
整合量測、分析、計(jì)算
操作模式安全化
同步原始數(shù)據(jù)呈現(xiàn)
硬件特征：
半導(dǎo)體鐳射光源
三格林泰勒棱鏡偏振系統(tǒng)
波長：260-1800nm
消光比：＞10⁵
發(fā)散角：≤3mrad
真空吸附載物臺
自動連續(xù)入射角（零度校正）
高分辨率半導(dǎo)體探測器