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KSV5000 LB膜分析儀

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KSV 5000 型LB膜分析儀,其系統(tǒng)復(fù)雜精致、應(yīng)用操作靈活。它擴(kuò)展了傳統(tǒng)的膜天平,使其成為一種高性能的LB膜分析儀器或者一整套交替多層LB膜分析

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KSV 5000 型LB膜分析儀

KSV 5000 型LB膜分析儀,其系統(tǒng)復(fù)雜精致、應(yīng)用操作靈活。它擴(kuò)展了傳統(tǒng)的膜天平,使其成為一種高性能的LB膜分析儀器或者一整套交替多層LB膜分析系統(tǒng)。

KSV 5000系統(tǒng)是由各模塊和輔助裝置組成。主框架是該系統(tǒng)的核心,按照要求的配置,各模塊和輔助裝置圍繞這個(gè)框架進(jìn)行組合。KSV 5000有三個(gè)基本系統(tǒng),18個(gè)不同的模塊和許多輔助裝置,可以使您有充分的機(jī)會(huì)選擇合適的儀器配置,以滿足您特定的實(shí)驗(yàn)要求。

 
技術(shù)指標(biāo)

膜天平測(cè)量范圍:        0~125 mN/m

膜天平分辨率:          4 ?N/m

槽表面積:              510×150 mm

亞相體積:              0.75L

亞相溫控:              0~60℃,通過外部浴槽加熱

壓縮速度:              0.01~800 mm/min,可程序控制

選件:                  攪拌器、零級(jí)和帶顯微鏡槽

 

zui大基片尺寸                    100×100 mm

鍍膜速率                        1~85 mm/min或2~170 mm/min

速率增量                        0.1 mm/min

 

 

鍍膜循環(huán)次數(shù)                    1個(gè)或無限多個(gè)

臂的zui大行程                    145 mm

滯后時(shí)間                        0~9999秒可調(diào)

鍍膜機(jī)電機(jī)                      伺服直流電機(jī)

壓縮槽表面積                    510×150 mm,帶鍍膜井

亞相容積                        0.95 L

亞相加熱                        0~60℃,通過外部浴槽加熱

 
特點(diǎn)

 

在線顯示實(shí)驗(yàn)參數(shù)(On-line display)

數(shù)字顯示卡顯示實(shí)驗(yàn)過程中參數(shù)的在線狀態(tài),如表面壓力、浸漬速率、滑障速率或其它任何用戶選定的參數(shù)。標(biāo)準(zhǔn)主框架包括兩個(gè)顯示卡:一個(gè)卡用于顯示滑障位置,另一個(gè)卡用于顯示膜壓。還可以另外單獨(dú)訂購其它的卡,很容易將他們安裝入主框架內(nèi)相應(yīng)的嵌入式擴(kuò)展槽中。

 

電動(dòng)升降機(jī)(Motorised height elevators)

電動(dòng)升降機(jī)可以使膜天平測(cè)量頭、浸漬頭、表面電勢(shì)計(jì)或其它測(cè)量裝置進(jìn)行垂直移動(dòng)。升降機(jī)由主框架支撐,為了精確定位,測(cè)量裝置裝在升降臂上。通過手動(dòng)鍵盤控制升降機(jī)的垂直移動(dòng)。Wilhelmy板的潤(rùn)濕過程、浸漬頭粗動(dòng)至起始點(diǎn)以及滑障的手動(dòng)控制驅(qū)動(dòng),這些都是通過遠(yuǎn)程控制鍵盤很方便地實(shí)現(xiàn)控制的。這些預(yù)備過程的遠(yuǎn)程控制減少了在薄膜上方的人工操作,因此消除了對(duì)薄膜造成污染的危險(xiǎn)。

 

AD/DA數(shù)模轉(zhuǎn)換卡(AD/DA converter cards)

 

浸漬器(Dipper)

浸漬器是一個(gè)鍍膜系統(tǒng),配有高精度直流電機(jī),可確保浸漬軸進(jìn)行平穩(wěn)的移動(dòng)。軸的速度、鍍膜周期數(shù)、停滯時(shí)間、局部鍍膜等,均可實(shí)現(xiàn)用戶編程,通過軟件進(jìn)行操作控制?;梢栽诨弦苿?dòng)的垂直方向或平行方向進(jìn)行浸漬鍍膜。

 

 

表面積控制(Surface area control)

膜壓縮方法對(duì)于能否重復(fù)生成高質(zhì)量薄膜起著重要的影響。KSV公司研制開發(fā)了幾種設(shè)計(jì)方案,用來進(jìn)行理想的膜壓縮過程。這些設(shè)計(jì)消除了影響儀器靈活性和可靠性的問題。

 

 

膜天平(Film balance)

表面壓力的準(zhǔn)確測(cè)量和精確的表面積控制系統(tǒng)對(duì)于無缺陷膜的生成是至關(guān)重要的。膜天平與一個(gè)滑障驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)聯(lián)機(jī),并有一個(gè)反饋電路用于壓縮、膨脹或恒定表面壓力操作模式。膜天平采用Wilhelmy板方法測(cè)量表面壓力。這種方法使用了一個(gè)電子微量天平和鉑材料的制成的Wilhelmy板。之所以采用鉑材料,是因?yàn)樗哂卸栊院秃玫挠H水性(表面經(jīng)噴沙處理)。鉑片容易清潔,使用耐久性好。僅需偶爾進(jìn)行標(biāo)定,使用軟件使天平電子調(diào)零。

KSV公司采用Langmuir槽設(shè)計(jì),經(jīng)實(shí)際考驗(yàn)很好,改進(jìn)成單分子膜的對(duì)稱壓縮。這種直接簡(jiǎn)便的方法被證明特別有效。

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