鄭科探 半導體行業(yè)360°C滾筒等離子清洗機
此款等離子清洗機針對粉末或者顆粒的360度表面處理設備，通過旋轉(zhuǎn)機構(gòu)帶動石英攪拌罐使樣品處于懸空位置達到360度清洗。

鄭科探 半導體行業(yè)360°C滾筒等離子清洗機

此款等離子清洗機針對粉末或者顆粒的360度表面處理設備，通過旋轉(zhuǎn)機構(gòu)帶動石英攪拌罐使樣品處于懸空位置達到360度清洗。

等離子清洗機作為一種微觀固體表面的處理設設備，是一種全新的表面處理方案。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清洗機是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔等目的。

鄭科探 半導體行業(yè)360°C滾筒等離子清洗機

主要應用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等。

該清洗機內(nèi)置高純石英倉體，采用了新型的電極結(jié)構(gòu)設計和固態(tài)電源技術(shù)，使其有效容積增大，不同真空 氣體環(huán)境下容易匹配，且控制頻率穩(wěn)定。真空倉門有觀察窗，可直觀物體的處理過程，其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內(nèi)，即減少了空間的占用，更便于操作和放置，同時與大型清洗機相比較，從檢測功能與控制功能的設置上均可一個面板上操作，特別適用科學實驗 樣品清洗 和教學。