背散射電子圖像分辨率：1.6 nm @ 15 kV
二次電子圖象分辨率：0.6 nm @ 15 kV
加速電壓：0.2~30 kV (減速模式下<>
放大倍數(shù)：2~2,000,000 倍
儀器種類：場發(fā)射

TESCAN MAGNA 新一代超高分辨場發(fā)射掃描電鏡
TESCAN MAGNA 是一款功能極其強大的分析儀器，適用于納米材料的形貌表征以及微觀分析。TESCAN MAGNA 配置 Triglav™ 型 SEM 鏡筒，具有超高的分辨率，在低電壓下尤為明顯；鏡筒內(nèi)探測器系統(tǒng)具有電子信號過濾能力，可以獲得更好的圖像襯度和表面靈敏度，非常適用于不導(dǎo)電樣品的成像，如陶瓷、無涂層生物樣品，以及在半導(dǎo)體光敏樣品。此外，TESCAN MAGNA 配備肖特基場發(fā)射電子槍，能夠提供高達 400 nA 的束流，結(jié)合 Triglav™ 型 SEM 鏡筒所具備的出色納米尺度分析性能和高穩(wěn)定性，為微分析和長耗時樣品的分析應(yīng)用提供了條件。
TESCAN MAGNA 使用了全新的 TESCAN Essence™ 軟件，用戶界面友好，可以滿足各類應(yīng)用需求，可定制的布局以及自動化的樣品制備功能，限度地提升了操作便捷性和工作效率。

TESCAN MAGNA FE-SEM 主要優(yōu)勢：
* 強大的微觀形貌觀測和微分析能力

TESCAN 的 Triglav™ 型 SEM 鏡筒具有 TriLens™ 三物鏡系統(tǒng) ，適用領(lǐng)域更加多樣化。UH-resolution  物鏡提供的超高分辨率非常適合于形貌細節(jié)觀察，使研究人員能夠更好的分析納米級樣品。全新的高分辨 Analytical 物鏡可實現(xiàn)無漏磁成像，是磁性樣品觀察和分析（EDS, EBSD）的理想選擇。第三個物鏡可以實現(xiàn)多種觀測模式切換，新一代 Triglav™ 鏡筒還具有自適應(yīng)束斑優(yōu)化功能，可以提高了大束流下的分辨率，這一特點有利于更好的進行 EDS、WDS 和 EBSD 等分析。

* 提供的分析條件
肖特基場發(fā)射電子槍能夠產(chǎn)生高達 400 nA 的電子束流，電壓也可以快速改變并保證在所有的分析應(yīng)用下都能夠獲得良好的信號。

* 讓復(fù)雜的應(yīng)用變的的簡單
新一代 TESCAN Essence™ 是一款簡化的、支持多用戶的軟件，它的布局管理器可以幫助用戶快速、方便地訪問所有主要功能。軟件界面可自定義，更好地適應(yīng)特定的應(yīng)用方向，符合不同用戶的使用偏好。軟件的各種功能模塊、向?qū)Ш蛻?yīng)用方案使得無論是入門級用戶或是專家級用戶都能夠輕松順暢的掌握掃描電鏡的操作，從而提升樣品的處理速度，提高工作效率。

* 可以獲得不同襯度圖像，洞察樣品 
TESCAN MAGNA 配備 TriBE™ 探測器系統(tǒng)：包含三個背散射電子探測器，可以根據(jù)角度和能量的差異選擇性地收集信號。Mid-Angle BSE 和 In-Beam f-BSE 探測器位于鏡筒內(nèi)，可以接收中角度和軸向的背散射電子，而樣品室內(nèi)背散射電子探測器則用于接收廣角背散射電子。同時，TESCAN MAGNA 還配備 TriSE™ 探測器系統(tǒng)：共有三個二次電子探測器，可在所有工作模式下以方式獲取二次電子：In-Beam SE 探測器可以在非常短的工作距離下接收二次電子；SE（BDM）為電子束減速模式下的二次電子探測器，可以提供的分辨率；樣品室內(nèi)的二次電子探測器則能提供形貌襯度的圖像。

TESCAN MAGNA FE-SEM 突出特點：
的電子信號選擇檢測功能，幫助用戶獲得更好的表面靈敏度和襯度。
進一步提升了低電壓下超高分辨 SEM 成像，以及在 30keV 下使用 STEM 表征納米材料的性能。
自適應(yīng)束斑優(yōu)化功能，有利于更好的進行 EDS、WDS 和 EBSD 等分析。