紫外臭氧清洗工作原理：清洗設(shè)備的核心是低壓石英汞燈，產(chǎn)生254和185nm范圍的紫外線。臭氧和等離子氧氣產(chǎn)生，有機(jī)污染物分子在吸收254nm波長紫外線后被激發(fā)或分解。激發(fā)的有機(jī)污染物可以和等離子氧原子反應(yīng)形成氣體，比如CO2,H2O等。整個過程在室溫**發(fā)生，并且只需要1到幾分鐘完成。

紫外臭氧清洗工作原理：

清洗設(shè)備的核心是低壓石英汞燈，產(chǎn)生254和185nm范圍的紫外線。臭氧和等離子氧氣產(chǎn)生，有機(jī)污染物分子在吸收254nm波長紫外線后被激發(fā)或分解。激發(fā)的有機(jī)污染物可以和等離子氧原子反應(yīng)形成氣體，比如CO2,H2O等。整個過程在室溫**發(fā)生，并且只需要1到幾分鐘完成。

*注1：白色氧化鋁暴露在UV能量下會變黃。這種現(xiàn)象是由于基材吸收UV能量， 而不是一種涂層。這種氧化鋁在加熱情況下會轉(zhuǎn)化為他原來的顏色。

**注2：清洗元件溫度的上升取決清洗過程的時間長度。在大多數(shù)應(yīng)用，元件溫度可以視為室溫。

UV紫外臭氧清洗的特點(diǎn):

· 超潔凈表面

· 室溫操作

· 快速－大多數(shù)應(yīng)用10分鐘內(nèi)可完成

· 運(yùn)行簡單

· 超低采購成本和zui小運(yùn)行成本

· 10×10 英寸（25.4×25.4cm）

· 220伏

T10X10紫外臭氧清洗機(jī)是一款臺式的紫外臭氧清洗設(shè)備。通過紫外線（185nm和254nm）和臭氧清洗基材表面，能夠簡單，經(jīng)濟(jì)，快速獲得超潔凈表面。能去除大多數(shù)無機(jī)基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁*等）上的有機(jī)污染物。特別是當(dāng)基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時，紫外清洗非常理想。獲得超潔凈的表面，只需要在傳統(tǒng)清洗后，再用紫外臭氧清洗幾分鐘。

T10X10紫外臭氧清洗機(jī)的屬性：