XAU-4C是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊，模塊精密化程度較高的光譜分析儀，采用了下照式C型腔體設(shè)計(jì)，是一款一機(jī)多用型光譜儀

XAU-4C是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊，模塊精密化程度較高的光譜分析儀，采用了下照式C型腔體設(shè)計(jì)，是一款一機(jī)多用型光譜儀。

應(yīng)用核心EFP算法和微光聚集技術(shù)，既保留了專(zhuān)用測(cè)厚儀檢測(cè)微小樣品和凹槽的性能，又可滿足微區(qū)RoHS檢測(cè)及成分分析。

被廣泛用于各類(lèi)產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來(lái)料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。

• 微小樣品檢測(cè)：最小測(cè)量面積0.03mm²（加長(zhǎng)測(cè)量時(shí)間可小至0.01mm²）

• 變焦裝置算法：可改變測(cè)量距離測(cè)量凹凸異形樣品，變焦距離可達(dá)0-30mm

• 自主研發(fā)的EFP算法：Li（3）-U（92）元素的涂鍍層，多層多元素，甚至有同種元素在不同層也可準(zhǔn)確測(cè)量

• 的解譜技術(shù)：減少能量相近元素的干擾，降低檢出限

• 高性能探測(cè)器：SDD硅漂移窗口面積25/50mm²探測(cè)器

• 光路系統(tǒng)：微焦加強(qiáng)型射線管搭配聚集

• 多準(zhǔn)直器自動(dòng)切換