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顯微分光膜厚儀 OPTM series2

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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●非接觸 · 非破壞 · 顯微、對焦、測量1秒完成 ●OPTM系列顯微分光膜厚儀是一款可替代橢偏儀,測試膜厚、折射率n、消光系數(shù)k、反射率的新型高精度、高性價比的分光膜厚儀。適用于各種可透光膜層的測試,并有可針對透明基板去除背面反射,從而達到“真實反射率、膜厚”測試的目的。此外,軟件操作簡單、使用方便且簡化了復(fù)雜的建模流程。...

詳細信息 在線詢價

產(chǎn)品特色

動畫

 非接觸、非破壞式,測頭可自由集成在客戶系統(tǒng)內(nèi)

● 初學(xué)者也能松解析建模的初學(xué)者解析模

 高精度、高再現(xiàn)性量紫外到近外波段內(nèi)的反射率,可分析多薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))

 焦加量1秒內(nèi)完成

 微分光下廣范的光學(xué)系統(tǒng)(紫外 ~ 近

 獨立測試頭對應(yīng)各種inline定制化需求

 最小對應(yīng)spot3μm

 可針對超薄膜解析nk

量測項目

●反射率分析

●多層膜解析(50層)

●光學(xué)常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))  

膜或者玻璃等透明基板樣品,受基板內(nèi)部反射的影響,無法正確測量。OPTM系列使用物鏡,可以物理去除內(nèi)部反射,即使是透明基板也可以實現(xiàn)高精度測量。此外,對具有光學(xué)異向性的膜或SiC等樣品,也可不受其影響,單獨測量上面的膜。

                                                                                                    (編號    第 5172203 號)
圖片1.png

應(yīng)用范圍

 導(dǎo)體、復(fù)合半導(dǎo)體:硅半導(dǎo)體、碳化硅半導(dǎo)體、砷化鎵半導(dǎo)體、光刻膠、介常數(shù)材

 FPD:LCD、TFT、OLED(有機EL)

 存:DVD、磁薄膜、磁性材

 光學(xué)材料:光片、抗反射

 平面示器:液晶示器、薄膜晶體管、OLED

 薄膜:AR膜、HC膜、PET膜等

 其它:建筑用材料、膠水、DLC等


規(guī)格式樣

(自動XY平臺型)

                                 OPTM-A1                OPTM-A2                OPTM-A3
波長范圍                230 ~ 800 nm                360 ~ 1100 nm                900 ~ 1600 nm
膜厚范圍                1nm ~ 35μm                7nm ~ 49μm                16nm ~ 92μm
測定時間                1秒 / 1點以內(nèi)
光徑大小                10μm (最小約3μm)
感光元件                CCD                InGaAs
光源規(guī)格                氘燈+鹵素?zé)? 鹵素?zé)?/span>
尺寸                556(W) X 566(D) X 618(H) mm (自動XY平臺型的主體部分)
重量                66kg(自動XY平臺型的主體部分

OPTM 選型

圖片2.png自動XY平臺型

圖片3.png固定框架型

圖片4.png嵌入頭型


波長與膜厚范圍

1639038153796819.jpeg


選型表

波長范圍

自動XY平臺型

固定框架型

嵌入頭型

230 ~ 800nm

OPTM-A1

OPTM-F1

OPTM-H1

360 ~ 1,100nm

OPTM-A2

OPTM-F2

OPTM-H2

900 ~ 1,600nm

OPTM-A3

OPTM-F3

OPTM-H3

 

物鏡

 

      類型

倍率

測量光斑

視野范圍

  反射對物型

10x lens

Φ 20μm

Φ 800μm

20x lens

Φ 10μm

Φ 400μm

40x lens

Φ 5μm

Φ 200μm

可視折射型

5x lens

Φ 40μm

Φ 1,600μm


量測案例

半導(dǎo)體行業(yè) - SiO2、SiN膜厚測定案例

企業(yè)微信截圖_16390434272220.png

半導(dǎo)體工藝中,SiO2用作絕緣膜,而SiN用作比SiO2更高介電常數(shù)的絕緣膜,或是用作CMP去除SiO2時的阻斷保護,之后SiN也被去除。絕緣膜的性能像這樣被使用時,為了精確的工藝控制,有必要測量這些膜厚度。


FPD行業(yè) - 彩色光阻膜厚測定

WPS圖片.jpeg

1.jpeg

彩色濾光片薄膜的制程中,一般將彩色光阻涂布在整個玻璃表面,通過光刻進行曝光顯影留下需要的圖案。RGB三色依次完成此工序。

彩色光阻的厚度不恒定是導(dǎo)致RGB圖案變形、彩色濾光片顏色偏差的原因,因此對彩色光阻的膜厚管理非常重要。


FPD行業(yè) – 用傾斜模式解析ITO構(gòu)造


ITO膜是液晶面板等使用的透明電極材料,制膜后需經(jīng)過退火處理(熱處理)提升導(dǎo)電性和透光性。此時,氧狀態(tài)和結(jié)晶性發(fā)生變化,使得膜厚產(chǎn)生階段性的傾斜變化。在光學(xué)上不能看作是構(gòu)成均一的單層膜。

對這樣的ITO用傾斜模式,由上部界面和下部界面的nk值,對傾斜程度進行測量。


半導(dǎo)體行業(yè) – 使用界面系數(shù)測定粗糙基板上的膜厚

如果基板表面非鏡面且粗糙度大,則由于散射,測量光降低且測量的反射率低于實際值。

通過使用界面系數(shù),因為考慮到了基板表面上的反射率的降低,可以測量出基板上薄膜的膜厚值。


DLC涂層行業(yè) – 各種用途DLC涂層厚度的測量


無標(biāo)題.png

DLC(類金剛石)涂層由于其高硬度、低摩擦系數(shù)、耐磨性、電絕緣性、高阻隔性、表面改性以及與其他材料的親和性等特征,被廣泛用于各種用途。

采用顯微光學(xué)系統(tǒng),可以測量有形狀的樣品。此外,監(jiān)視器一邊確認(rèn)檢查測量位置一邊進行測量的方式,可以用于分析異常原因。



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