產(chǎn)品類型：能量色散X熒光光譜分析儀產(chǎn)品名稱：鍍層測(cè)厚儀產(chǎn)品型號(hào)：XTU-4C產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：XTU-4C是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊，模塊精密化程度的鍍層測(cè)厚儀，C型開槽設(shè)計(jì)樣品腔，讓其滿足了既可測(cè)量超微小樣品的檢測(cè)，同時(shí)還可滿足超過樣品腔尺寸的大工件測(cè)量

產(chǎn)品類型：能量色散X熒光光譜分析儀

產(chǎn)品名稱：鍍層測(cè)厚儀

產(chǎn)品型號(hào)：XTU-4C

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：

XTU-4C是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊，模塊精密化程度的鍍層測(cè)厚儀，C型開槽設(shè)計(jì)樣品腔，讓其滿足了既可測(cè)量超微小樣品的檢測(cè)，同時(shí)還可滿足超過樣品腔尺寸的大工件測(cè)量。

被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。

1）搭載微聚焦加強(qiáng)型X射線發(fā)生器和的光路轉(zhuǎn)換聚焦系統(tǒng)，最小測(cè)量面積達(dá)0.002mm2

2）擁有無損變焦檢測(cè)技術(shù)，手動(dòng)變焦功能，可對(duì)各種異形凹槽件進(jìn)行無損檢測(cè)，凹槽深度范圍0-30mm

3）核心EFP算法，可對(duì)多層多元素，包括同種元素在不同層都可快、準(zhǔn)、穩(wěn)的做出數(shù)據(jù)分析（釹鐵硼磁鐵上Ni/Cu/Ni/FeNdB，精準(zhǔn)檢測(cè)層Ni和第三層Ni的厚度）

4）配備高精密微型移動(dòng)滑軌，可實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)位、多樣品的精準(zhǔn)位移和同時(shí)檢測(cè)

5）裝配高效率正比接收器，即便測(cè)量0.01mm2以下的樣品，幾秒鐘也可達(dá)到穩(wěn)定性

6）可同時(shí)分析23個(gè)鍍層，24種元素，測(cè)量元素范圍：氯Cl（17）- 鈾U（92），涂鍍層分析范圍：鋰Li（3）- 鈾U（92），涂鍍層檢出限：0.005μm

7）人性化封閉軟件，自動(dòng)判斷故障提示校正及操作步驟，避免誤操作

8）標(biāo)配4準(zhǔn)直器自由切換，最小測(cè)量面積可達(dá)0.002mm2

9）配有微光聚集技術(shù)，最近測(cè)距光斑擴(kuò)散度小于10%

儀器配置：

1. 微聚焦加強(qiáng)型X射線管：高穩(wěn)定性X射線發(fā)生器

        —鈹窗口，油絕緣，氣冷式，輻射安全電子管屏蔽

        —50kV，1mA，高壓和管流設(shè)定為應(yīng)用程序提供更好的性能

        —符合DIN ISO 3497、DIN 50987和ASTM B 568射線標(biāo)準(zhǔn)，如有特殊要求，也可協(xié)商定制

2. 接收器：高效率正比計(jì)數(shù)管

        —窗口面積≥150mm2

3. 光路轉(zhuǎn)換器

        —φ0.5mm，φ0.2mm，φ0.1mm，φ0.05mm四準(zhǔn)直器自由切換

4. 定制專享高敏感鏡頭

        —1/2.7”彩冊(cè)CCD高敏感可變焦鏡頭，全局快門，有效像素：1280*960，光學(xué)38-46X，數(shù)字放大40-200倍  

5. 恒壓恒流快門式光閘

    —擁有高壓電源緊急自鎖功能，帶給您更安全的防護(hù)

6. 移動(dòng)平臺(tái)

        —手動(dòng)高精密XY移動(dòng)滑軌，移動(dòng)范圍50mm*50mm，精度0.01mm

7. 全新一代高壓電源

—性能穩(wěn)定可靠，高達(dá)50W的功率實(shí)現(xiàn)更高的測(cè)試效率

8. 對(duì)流通風(fēng)式過濾風(fēng)冷

—的散熱系統(tǒng)配備，儀器即便全天候開啟，都可保持恒溫恒效

9. 隨附標(biāo)準(zhǔn)片

        —免費(fèi)提供十二元素片、五選二標(biāo)準(zhǔn)片（ Ni/Cu 2um、Ni/Fe 5um、Au/XX 0.05um、Ag/XX 0.5um、Cr/XX 0.15um）、其他規(guī)格（選配）

10. 其他配置

        —電腦一套、打印機(jī)、附件箱、電鍍液測(cè)量杯（選配）

技術(shù)參數(shù)：

1. 元素分析范圍：氯（Cl）- 鈾（U）

2. 涂鍍層分析范圍：鋰（Li）- 鈾（U）

3. 厚度檢出限：0.005μm

4. 成分檢出限：1ppm

5. 最小測(cè)量直徑0.05mm（最小測(cè)量面積0.002mm2）

6. 對(duì)焦距離：0-30mm

7. 樣品腔尺寸：500mm*360mm*215mm

8. 儀器尺寸：550mm*480mm*470mm

9. 儀器重量：45KG

10. XY軸工作臺(tái)移動(dòng)范圍：50mm*50mm

11. XY軸工作臺(tái)承重：5KG

12. 多元迭代EFP核心算法（號(hào)：2017SR567637）

專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上，計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法，結(jié)合的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)，只需要少量的標(biāo)樣來校正儀器因子，可測(cè)試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。

單涂鍍層應(yīng)用：如Ni/Fe、Ag/Cu等

多涂鍍層應(yīng)用：如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

合金鍍層應(yīng)用：如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

合金成分應(yīng)用：如NiP/Fe，通過EFP算法，在計(jì)算鎳磷鍍層厚度的同時(shí)，還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例。

重復(fù)鍍層應(yīng)用：不同層有相同元素，也可精準(zhǔn)測(cè)量和分析。

如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB，層Ni和第三層Ni的厚度均可測(cè)量。

儀器參數(shù)：