應(yīng)用于地質(zhì)學(xué)年代測量，LA-ICP-MS連用。

產(chǎn)品型號(hào)：
Ex-Light 193 
 
產(chǎn)品說明：
Ex-Light 193是新一代193nm準(zhǔn)分子激光剝蝕系統(tǒng)。采用了德國Mlase超穩(wěn)定的低功率，讓設(shè)備使用更穩(wěn)定，壽命更長。系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)緊湊，集成度高，光路簡潔實(shí)用，光斑勻化效果好。能將激光器的能量限度地作用于樣品表面，提高樣品表面的激光能量密度，增強(qiáng)剝蝕過程中的信號(hào)靈敏度。

技術(shù)特點(diǎn)：
193nm，超短脈寬，高峰值功率
靜態(tài)氣體壽命 >30天
激光器壽命 >20億次脈沖
樣品表面能量密度 >15J/cm²
多種樣品室方案，可定制
反射/透射照明
同軸機(jī)器視覺，所見即所得

應(yīng)用領(lǐng)域：
同位素比率測定
流體包裹體研究
鋯石U/Pb紀(jì)年
海洋沉積物分析
環(huán)境分析
考古研究