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聚焦離子束掃描電鏡FIB Crossbeam

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蔡司雙束電鏡Crossbeam系列的FIB-SEM結(jié)合了場發(fā)射掃描電子顯微鏡(FE-SEM)出色的成像和分析性能,和新一代聚焦離子束(FIB)優(yōu)異的加工性能。無論是在科研或是工業(yè)實驗室

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   蔡司雙束電鏡Crossbeam系列的FIB-SEM結(jié)合了場發(fā)射掃描電子顯微鏡(FE-SEM)出色的成像和分析性能,和新一代聚焦離子束(FIB)優(yōu)異的加工性能。無論是在科研或是工業(yè)實驗室,您都可以在一臺設(shè)備上實現(xiàn)多用戶同時操作。得益于蔡司Crossbeam系列模塊化的平臺設(shè)計理念,您可以根據(jù)自己需求的變化隨時升級儀器系統(tǒng)。在加工、成像或是實現(xiàn)三維重構(gòu)分析時,Crosssbeam系列都將大大提升您的應(yīng)用體驗。

  使用Gemini電子光學系統(tǒng),您可以從高分辨率SEM圖像中提取真實樣本信息

  使用新的Ion-sculptor FIB鏡筒以及全新的樣品處理方式,您可以大限度地提高樣品質(zhì)量、降低樣品損傷,同時大大加快實驗操作過程

  使用Ion-sculptor FIB的低電壓功能,您可以制備超薄的TEM樣品,同時將非晶化損傷降到非常低

  使用Crossbeam 340的可變氣壓功能

  或使用Crossbeam 550實現(xiàn)更苛刻的表征,大倉室甚至為您提供更多選擇

  EM樣品制備流程

  按照以下步驟,高效率、高質(zhì)量地完成制樣

  Crossbeam 為制備超薄、高質(zhì)量的TEM樣品提供了一整套解決方案,您可以高效地準備樣品,并在TEM或STEM上實現(xiàn)透射成像模式的分析。

  1.自動定位——感興趣的區(qū)域(ROI)輕松導(dǎo)航

  您可以不費功夫地找到感興趣的區(qū)域(ROI)

  使用樣品交換室的導(dǎo)航相機對樣品進行定位

  集成的用戶界面使得您可以輕松定位到ROI

  在SEM上獲得寬視野、無畸變的圖像

  2. 自動制樣——從體材料開始制備薄片樣品

  您可以通過簡單的三個步驟制備樣品:ASP(自動樣品制備)

  定義參數(shù)包括漂移修正,表面沉積以及粗切、精細切割

  FIB鏡筒的離子光學系統(tǒng)保證了工作流程具有的通量

  將參數(shù)導(dǎo)出為副本,進而可以重復(fù)操作實現(xiàn)批量制備

  3. 輕松轉(zhuǎn)移——樣品切割、轉(zhuǎn)移機械化

  導(dǎo)入機械手,將薄片樣品焊接在機械手的針尖上

  將薄片樣品與樣品基體連接部分進行切割,使其分離

  薄片隨后會被提取并轉(zhuǎn)移到TEM柵網(wǎng)上

  4. 樣品減薄——獲取高質(zhì)量TEM樣品至關(guān)重要的一步

  儀器在設(shè)計上允許用戶實時監(jiān)控樣品厚度,并最終達到所需求的目標厚度

  您可以同時通過收集兩個探測器的信號判斷薄片厚度,一方面可以通過SE探測器以高重復(fù)性獲取最終厚度,另一方面可以通過Inlens SE 探測器控制表面質(zhì)量

  制備高質(zhì)量的樣品,并將非晶化損傷降到可以忽略的地步

  蔡司 Crossbeam 340 蔡司 Crossbeam 550
掃描電子束系統(tǒng) Gemini I VP 鏡筒

Gemini II鏡筒

可選Tandem decel

樣品倉尺寸和接口 標準樣品倉有18個擴展接口 標準樣品倉有18個擴展接口或者加大樣品倉有22個擴展接口
樣品臺 X/Y方向行程均為100mm X/Y方向行程:標準樣品倉100mm加大樣品倉153 mm 
荷電控制

荷電中和電子槍

局域電荷中和器

可變氣壓

荷電中和電子槍

局域電荷中和器

 

可選選項

Inlens Duo探測器可依次獲取SE/EsB圖像

VPSE探測器

Inlens SE 和 Inlens EsB可同時獲取SE和ESB成像

大尺寸預(yù)真空室可傳輸8英寸晶元

注意加大樣品倉可同時安裝3支壓縮空氣驅(qū)動的附件。例如 STEM, 4分割背散射 探測器和局域電荷中和器

特點 由于采用了可變氣壓模式,從而具有更大范圍的樣品兼容性,適用于各類原位實驗,可依次獲取SE/EsB圖像 高效的分析和成像,在各種條件下保持高分辨特性,同時獲取Inlens SE和Inlens ESB圖像
    *SE 二次電子,EsB 能量選擇背散射電子


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