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靈活的探測，4步工作流程，高級的分析性能將高級的分析性能與場發(fā)射掃描技術(shù)相結(jié)合，利用成熟的Gemini電子光學(xué)元件
將高級的分析性能與場發(fā)射掃描技術(shù)相結(jié)合，利用成熟的 Gemini 電子光學(xué)元件。多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結(jié)構(gòu)成像。Sigma 半自動的4步工作流程節(jié)省大量的時間：設(shè)置成像與分析步驟，提高效率。
Sigma 300 性價比高。Sigma 500 裝配有的背散射幾何探測器，可快速方便地實現(xiàn)基礎(chǔ)分析。任何時間，任何樣品均可獲得精準可重復(fù)的分析結(jié)果。
利用探測術(shù)為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。
利用 in-lens 雙探測器獲取形貌和成份信息。
利用新一代的二次探測器，獲取高達50%的信號圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創(chuàng)新的 C2D 和可變壓力探測器，在低真空環(huán)境下獲取高達85%對比度的銳利的圖像。
4步工作流程讓您控制 Sigma 的所有功能。在多用戶環(huán)境中，從快速成像和節(jié)省培訓(xùn)，首先對樣品進行導(dǎo)航，然后設(shè)置成像條件。
首先，先對樣品進行導(dǎo)航，然后設(shè)置成像條件。
接下來對樣品感興趣的區(qū)域進行優(yōu)化并自動采集圖像。最后使用工作流程的步，將結(jié)果可視化。
將掃描電子顯微鏡與基本分析相結(jié)合：Sigma 的背散射幾何探測器大大提升了分析性能，特別是對電子束敏感的樣品。
在一半的檢測束流和兩倍的速度條件下獲取分析數(shù)據(jù)。
獲益于 8.5 mm 短的分析工作距離和 35° 夾角，獲取完整且無陰影的分析結(jié)果。
Gemini 鏡頭的設(shè)計結(jié)合考慮了電場與磁場對光學(xué)性能的影響，并將場對樣品的影響降至更低。這使得即使對磁性樣品成像也能獲得出色的效果。
Gemini in-lens 的探測確保了信號探測的效率，通過二次檢測(SE)和背散射(BSE)元件同時減少成像時間。
Gemini 電子束加速器技術(shù)確保了小的探測器尺寸和高的信噪比。
如果單采用 SEM 成像技術(shù)無法全面了解部件或樣品，研究人員就需要在 SEM 中采用能譜儀（EDS）來進行顯微分析。通過針對低電壓應(yīng)用而優(yōu)化的能譜解決方案，您可以獲得元素化學(xué)成分的空間分布信息。得益于：
優(yōu)化了常規(guī)的顯微分析應(yīng)用，并且由于氮化硅窗口優(yōu)秀的透過率，可以探測輕元素的低能X射線。
工作流程引導(dǎo)的圖形用戶界面極大地改善了易用性，以及多用戶環(huán)境中的重復(fù)性。
完整的服務(wù)和系統(tǒng)支持，由蔡司工程師為您的安裝、預(yù)防性維護及保修提供一站式服務(wù)。
在您的數(shù)據(jù)中加入拉曼光譜及成像結(jié)果，獲得材料更豐富的表征信息。通過擴展蔡司 Sigma 300，使其具備共聚焦拉曼成像功能，您能夠獲得樣品中無二的化學(xué)指紋信息，從而指認其成分。
識別分子和晶體結(jié)構(gòu)信息
可進行 3D 分析，在需要時可關(guān)聯(lián) SEM 圖像、拉曼面掃描成像和 EDS 數(shù)據(jù)。
集成 RISE 讓您體驗由的 SEM 和拉曼系統(tǒng)帶來的優(yōu)勢。
*您想獲取產(chǎn)品的資料：
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