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NanoCalc光學薄膜厚度測量系統(tǒng)是一種用戶可配置的膜厚測量系統(tǒng)，它利用分光光譜反射儀來精確地測量光學或非光學薄膜厚度，可廣泛應用于半導體、醫(yī)療和工業(yè)生產(chǎn)中。
NanoCalc是一種用戶可配置的膜厚測量系統(tǒng)，它利用分光光譜反射儀來精確地測量光學或非光學薄膜厚度，可廣泛應用于半導體、醫(yī)療和工業(yè)生產(chǎn)中。
利用白光干涉測量法的原理，NanoCalc用一個寬波段的光源來測得不同波長的反射數(shù)據(jù)，由于反射率n和k隨膜厚的不同而變化，NanoCalc根據(jù)這一特性來進行曲線擬合從而求得膜厚。在NanoCalc中，不同類型材料的相應參數(shù)通過不同的模型來描述，從而保證了不同類型材料膜厚測量的準確性。NanoCalc的膜厚測量范圍為1nm到1mm，只要待測材料有一定的透射或反射就能通過NanoCalc進行膜厚測量，這些材料包括氧化物、氮化物和保護膜層等，通常這些覆膜的基地材料包括硅晶片或玻璃燈。
1nm以上的金屬膜厚也能測量，只要不是*不透光的。對于已知的系統(tǒng)，3層以內的多層膜厚測量可以在不到一秒鐘時間內完成。
通常擬合曲線和實際曲線由于干涉會引起一些差異，NanoCalc的算法充分考慮到了這一點，從而可以在比較粗糙的表面進行測量。
光學薄膜厚度測量系統(tǒng)產(chǎn)品主要優(yōu)勢和特點
快 速： | 每次測量只需輕點一下鼠標，測量結果立即呈現(xiàn)在顯示屏上，不到一秒鐘。應用于在線模式下，可接受到采樣信號后，立即測量。 |
準 確： | 分辨率0.1nm，重復性0.3nm，準確度優(yōu)于1%，并且還有數(shù)百種材料組成的龐大材料庫，幫助您準確分析您的薄膜。同時NanoCalc為光學測試系統(tǒng)，無任何運動部件，不會由于多次測量產(chǎn)生回程誤差等機械運動誤差，可長時間穩(wěn)定工作。 |
無 損： | 光學無損檢測，無需像臺階儀、SEM等需破壞樣品進行測量。 |
靈 活： | 重量約為3.5kg，體積為180*150*263mm，USB連接方式，自適應90-240V的電壓，攜帶方便，安裝簡單，可任意放置于實驗室、生產(chǎn)線甚至辦公桌上使用。擁有多種特種配件，可適用如非平面測量，顯微測量，mapping等特殊要求。 |
易 用： | 軟件界面直觀，操作簡便，用戶體驗出色。無需專業(yè)知識以及復雜的技術培訓，預先設置好測試配方后，每次重復調用即可。 |
性價比高： | 相對于傳統(tǒng)膜厚測量設備，NanoCalc擁有非常高的性價比。 |
光學薄膜厚度測量系統(tǒng)應用領域
半導體 SiO2 光刻膠 SOI等 |
LCD/TFT/PDP 液晶盒厚 聚亞酰胺 ITO等 |
LED SiO2 光刻膠 ITO等 |
觸摸屏 ITO AR Coating 反射/透射率測試等 |
汽車 防霧層 Harding Coating DLC等 |
醫(yī)學 聚對二甲苯涂層 球囊/導管壁厚 藥膜等 |
太陽能 TCO CIGS CdS/CdTe A-Si等 |
聚合物薄膜 PET PC 亞克力等
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眼鏡 AR Coating Harding Coating
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光學薄膜厚度測量系統(tǒng)技術參數(shù)
| 產(chǎn)品型號 | NanoCalc-VIS | NanoCalc-XR | NanoCalc-DUV |
| 波長 | 350-1000nm | 250-1100nm | 200-1100nm |
| 厚度范圍 | 50nm-100um | 10nm-100um | 1nm-100um |
| 產(chǎn)品型號 | NanoCalc-NIR | NanoCalc-VIS-NIR | NanoCalc-XR-NIR |
| 波長 | 900-1700nm | 350-1700nm | 250-1700nm |
| 厚度范圍 | 100nm-250um | 50nm-150um | 10nm-250um |
| 分辨率 | 0.1nm | ||
| 可重復性 | 0.3nm | ||
| 準確度 | <1%（50nm-100um） | ||
| 層數(shù) | 1~10層 | ||
| 距光纖距離 | 1~5mm | ||
| 距鏡片距離 | 5-100mm | ||
| 入射角 | 90°通常 | ||
| 光斑大小 | 400um | ||
| 顯微光斑大小 | 1-20um | ||
| 光纖長度 | 2m（可定制） | ||
| 通訊接口 | USB/RS232 | ||
| 功耗 | 12VDC,1.2A | ||
| 電源 | 90-240VAC 50/60HZ | ||
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