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DE400 電子束蒸發(fā)真空鍍膜系統(tǒng)鍍膜機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng) 德儀科技有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào)
  • 所在地 北京市
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2015/11/27 17:00:00
  • 訪問(wèn)次數(shù) 1676

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DE400電子束蒸發(fā)儀配置一個(gè)電子束蒸發(fā)源,基片架裝于腔體側(cè)面水平轉(zhuǎn)動(dòng)的軸上,基片可以改變鍍膜角度

詳細(xì)信息 在線詢價(jià)

The DE400 Electron Beam Evaporator is assembled with one e-beam source,  the substrate is mounting on the horizontal axial on the side of chamber for the substrate polar to change the deposition angle.

DE400電子束蒸發(fā)儀配置一個(gè)電子束蒸發(fā)源,基片架裝于腔體側(cè)面水平轉(zhuǎn)動(dòng)的軸上,基片可以改變鍍膜角度

 

Configuration

主要配置

 

 

Evaporation Chamber

蒸發(fā)腔體

304 stainless steel chamber with viewport

蒸發(fā)腔體為304不銹鋼,并有觀察窗

Vacuum Pumping

真空泵

Cryo-pump or Turbo pump and dry rough pump

蒸發(fā)室配備分子泵和無(wú)油機(jī)械泵

Vacuum Valve

真空閥門(mén)

Pneumatic UHV gate valves

氣動(dòng)控制超高真空插板閥

Evaporation Source

蒸發(fā)源

Multi pocket e-beam source

多坩堝電子束蒸發(fā)源 

Substrate Chamber

樣品室

304 stainless steel chamber with viewport

蒸發(fā)腔體為304不銹鋼,并有觀察窗

Sample Stage 

樣品臺(tái)

Side mount polar Substrate

側(cè)面安裝的轉(zhuǎn)角樣品臺(tái)

Film Control

膜厚檢測(cè)

Crystal Film thickness Monitor and Control 

晶振膜厚監(jiān)控

Vacuum Gauging

真空測(cè)量

Wide range vacuum gauge and rough gauge

寬量程真空計(jì)用于測(cè)量真空和粗抽計(jì)

 

Specification

主要技術(shù)指標(biāo)

 

 

The Base Vacuum Pressure

極限真空度

better than 9E-9 Torr

優(yōu)于9E-9托

Sample Loading Capacity

裝樣能力

One Max. 4 inch flat substrate

一個(gè)zui大4英寸的平板基片

Rate Resolution

蒸發(fā)速率分辨率

0.05 Angstroms/sec

Thickness Resolution = 0.02 Angstroms

膜厚分辨率

0.02 Angstroms

 

 

 

Features

特點(diǎn)

   

Unique Design of Substrate Chamber and Sources chamber isolated by UHV gate valve

*的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),基片腔體和蒸發(fā)源腔體通過(guò)UHV門(mén)閥隔開(kāi)

 

All Metal Seal, True UHV System 

系統(tǒng)采用全金屬密封,真正的超高真空系統(tǒng) 

 

Stand along system frameworks and electric rack

獨(dú)立的系統(tǒng)機(jī)架和電器柜

 

E-beam source Water Interlock

電子束蒸發(fā)源冷水安全互鎖

 

 

Optional Substrate Cooling

樣品臺(tái)可選水冷

 

 

Typical Application 

典型應(yīng)用 

 

For R&D Thin Film Deposition 

用于薄膜沉積研發(fā)

 

Ideal tools for LIFT-OFF process

用于LIFT-OFF工藝的理想平臺(tái)

 

Ideal tools for GLAD process

用于GLAD工藝的理想平臺(tái)

 

Evaporate metal, Semiconductor or Insulation Materials (material depends)

可蒸發(fā)金屬,半導(dǎo)體或介質(zhì)材料(視具體材料而定)

 

Evaporate Magnetic Materials

可蒸發(fā)磁性材料

 

LOAD LOCK

預(yù)真空進(jìn)樣室(可選)


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