DE300電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
LOAD LOCK預真空進樣室(可選)
前開門蒸發(fā)腔體
冷凝泵和干泵
多坩堝位旋轉電子槍
zui大6”基片
基片旋轉
基片偏壓(可選)
離子源清洗基片(可選)
基片加熱1000度(可選)
晶振沉積速率及膜厚控制
系統(tǒng)手動或自動控制
良好的薄膜均勻性和重復性
可沉積金屬、半導體和絕緣材料
可沉積多層膜
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DE TECHNOLOG

DE300電子束蒸發(fā)系統(tǒng)

LOAD LOCK預真空進樣室（可選） 

· 前開門蒸發(fā)腔體 

· 冷凝泵和干泵 

· 多坩堝位旋轉電子槍 

· zui大6”基片 

· 基片旋轉 

· 基片偏壓（可選） 

· 離子源清洗基片（可選） 

· 基片加熱1000度（可選） 

· 晶振沉積速率及膜厚控制 

· 系統(tǒng)手動或自動控制 

· 良好的薄膜均勻性和重復性 

· 可沉積金屬、半導體和絕緣材料 

· 可沉積多層膜

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DE TECHNOLOGY LIMITED

德儀科技有限公司

Cell: 

.: ,67832717

: de@deProducts.com

德儀科技有限公司專業(yè)進口美國磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)和脈沖激光真空薄膜沉積設備，以及磁控濺射源/電源、電子束蒸發(fā)源、濺射靶材和蒸發(fā)材料、閥門、真空計和流量計、真空密封穿導件等各種真空部件。十幾年來，憑著的品質，*的技術和周到的技術服務，德儀公司的產(chǎn)品為中國的高校、科研院所及企業(yè)的薄膜沉積工作提供了有力的支持！ 

      我們期待為您提供您使用的真空薄膜沉積設備和部件！ 

主要產(chǎn)品：

                 Sputter 磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng) 
                  E-Beam 電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng) 
                  Thermal 熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng) 
                  PLD 脈沖激光鍍膜系統(tǒng) 
                  Sputter Sources 磁控濺射陰極 
                  DC/RF Power Supply 直流/射頻電源 
                  E-Beam Sources 電子束蒸發(fā)源 
                  Thermal EVP Sources 熱蒸發(fā)源 
                  Deposition Materials 濺射靶材和蒸發(fā)鍍膜材料 
                  Sample Manipulator 樣品臺 
                  Feedthroughs 電子穿導器件 
                  Vacuum Valves 真空閥門 
                  Vacuum Components 真空配件 
  
                  的品質、優(yōu)質的服務是我們的宗旨！