瑞士CSM納米劃痕儀主要用于界定膜基結(jié)合強度與薄膜抗劃痕強度，適用的薄膜厚度一般低于800納米。

瑞士CSM納米劃痕儀(10uN - 1N)
 

　　可以測試薄膜和基底的臨界附著力，劃痕深度、劃痕寬度、凸起高度以及材料的粘彈性恢復(fù)等力學(xué)性能?？梢赃M行微拉伸實驗?？蓪崟r記錄摩擦力及摩擦系數(shù)的變化，以及用于納米磨損測試。
 

　　瑞士CSM的納米劃痕儀主要用于界定膜基結(jié)合強度與薄膜抗劃痕強度，適用的薄膜厚度一般低于800納米。納米劃痕儀可以用于多種薄膜材料的檢測分析，例如單層或多層PVD、CVD、PECVD薄膜，感光薄膜，彩繪釉漆，光學(xué)薄膜，微電子鍍膜，保護性薄膜，裝飾性涂層等等?；w可以為軟質(zhì)或硬質(zhì)材料，包括金屬、合金、半導(dǎo)體、玻璃、礦物、以及有機材料等。
 

　　瑞士CSM納米劃痕儀技術(shù)參數(shù)：
 

　　劃痕測試單元：
 

　　劃痕正向力載荷 10uN-1N
 

　　摩擦力可大至 1N(或200mN)
 

　　摩擦力分辨率 6uN(或300nN)
 

　　劃痕深度 200 um
 

　　劃痕長度 120mm
 

　　劃痕速度 0.4-600mm/min，連續(xù)可調(diào)
 

　　高質(zhì)量金相顯微鏡系統(tǒng) ：
 

　　配有高分辨率的彩色CCD和與之匹配的圖形采集系統(tǒng)
 

　　配有5X，20X、和100倍的物鏡鏡頭，屏幕上放大倍率4000倍
 

　　在不拆卸、更換鏡頭的情況下，通過轉(zhuǎn)塔可以在不同倍率鏡頭間切換使用
 

　　采用LED光源系統(tǒng)
 

　　軟件控制光源系統(tǒng)的亮度和聚焦
 

　　點擊鼠標即可實時存取試樣表面的光學(xué)圖像
 

　　全自動連續(xù)景深成像(Multifocus)
 

　　全景成像模式(Panorama模式，對劃痕)
 

　　雙顯示器，一個用于測試模塊的軟件控制，一個用于光學(xué)圖像采集、觀察
 

　　配有成像分析軟件：具有長度標尺，可以測試或顯示光學(xué)圖像中任意兩點坐標，水平距離、垂直距離、直線距離
 

　　XYZ三方向全自動試樣臺(以CPX納米力學(xué)平臺為例)：
 

　　X方向移動范圍： 120mm
 

　　Y方向移動范圍： 70mm
 

　　有效工作面積： 70mmX20mm
 

　　定位分辨率：  0.1um
 

　　定位精度：  1um
 

　　Z方向自動移動范圍： 30mm
 

　　分辨率：10nm
 

　　XYZ三方向移動控制：鼠標控制、鍵盤控制及操縱桿控制